氟化銨在半導體製程中常與氫氟酸混合形成緩衝氧化蝕刻劑；作為緩衝劑，作用為穩定氫氟酸的濃度，避免蝕刻速率過快導致不均勻。
其核心價值在於其可控性與選擇性，尤其在先進製程中對奈米級薄膜的精確處理至關重要。
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- 包裝形式：槽車、200L桶裝、20L Pail、加侖瓶。
氟化銨 (Ammonium Fluoride)
氟化銨（NH₄F）在半導體製程中是一種重要的化學藥劑，主要應用於濕法蝕刻和清洗步驟，尤其在矽（Si）和二氧化矽（SiO₂）的處理中具有關鍵作用。
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