top of page
Photo.026.jpeg

電子級

  • 氫氟酸

   用於半導體晶圓去除SiOx、面板業薄化玻璃、太陽能模板霧化提高發電效率

​

  • 氟化銨

    用於製造製造半導體及面板產業使用的緩衝蝕刻液

​

  • 緩衝蝕刻液

    廣泛用於半導體及面板產業，可有效控制蝕刻速率、晶圓及玻璃表面粗糙度及藉由降

    低表面張力達到濕潤性

bottom of page